明年5月開放時，位于華盛頓特區的德懷特·d·艾森豪威爾紀念館(Dwight D. Eisenhower Memorial)最引人注目的特色之一，將是一幅450英尺長的不銹鋼掛毯，描繪的是法國諾曼底海岸。

紀念地南部邊緣的60英尺高的金屬編織掛毯將成為引人注目的背景，那里有比真人還大的青銅雕像，描繪著美國第34任總統和五星上將的生活場景。

德懷特·d·艾森豪威爾(Dwight D. Eisenhower)紀念委員會(Dwight D. Eisenhower Memorial Commission)副主任維多利亞·蒂德威爾(Victoria Tidwell)說，這幅獨特的透明掛毯由項目建筑師弗蘭克·蓋里(Frank Gehry)繪制的線條蝕本，白天會發光，晚上會反光，而周圍建筑的視線則是開放的。

制作過程中，藝術家托馬斯·奧辛斯基使用了agraphic文件，將藝術品轉換成三維空間。在奧斯基斯洛斯基的洛杉磯工作室，織工們正在使用一種定制編程的CNC(計算機數控)機器，這種機器經過了改造，可以使用不同厚度的不銹鋼線軸來制作604塊3英尺乘15英尺的掛毯。

每個面板的重量根據其藝術作品而變化。最輕的面板大約有75磅重，而藝術作品密度最大的面板重達125磅。克拉克建筑公司(Clark Construction)副總裁兼業務部門負責人賈里德·奧爾德羅伊德(Jared Oldroyd)說，掛毯總共將包括約600英里長的不銹鋼電纜和超過8,200萬個不銹鋼電纜焊接處。

今年秋天完工后，這些面板將被運往馬里蘭州的一個倉庫，然后隨著安裝的進展分批交付。他們將被固定在一個重達125噸的箱形梁上，并在6根80英尺高的石灰巖柱子上安裝了張緊的電纜網支撐系統，這些柱子上安裝了精確嵌入的板來固定電纜，Oldroyd說。

克拉克公司副總裁兼虛擬設計與施工總監布萊恩·克勞斯(Brian Krause)表示，將藝術品安裝到24個嵌入件和72個對應托架上的誤差極小。

為了幫助滿足嚴格的要求，克拉克公司的工程師采用了激光掃描技術，這種技術已經在華盛頓特區的地鐵區域的幾十個項目中得到了應用。Clark的VDCteam使用Faro掃描儀對網站進行了大約25次重疊的虛擬掃描。每次掃描大約需要五分鐘，Krause說，并補充說，這個過程類似于數字3D掃描，用于幫助重建巴黎圣母院大教堂。

艾森豪威爾紀念館的掃描圖像被編譯成一個點云，一個看起來像3D模型的圖像，但實際上是數百萬個點的渲染，Krause說。然后，他的團隊用掛毯的效果圖覆蓋設計模型，以測量每個嵌入板的精確位置。為了創建虛擬模型和點云，團隊使用了Faro、Leica、Autodesk、Synchro軟件和SketchUp等一系列電腦程序。

最近，工作人員豎起了這些柱子，并使用來自掃描的數據，將嵌入物固定在適當的位置。掛毯交付后，還將使用掃描來提供準確的電纜張力測量，以確定在安裝掛毯時應該在每根電纜上施加多大的張力。

Krause說，雖然現實捕捉技術將有助于減少安裝tapestry所需的時間，但這并不是主要目標。

“更重要的是，在我們建造的過程中，我們要確保建造的東西的精確性和確定性，”克勞斯說。

掛毯、柱子和電纜系統的設計將保證它在任何天氣條件下都是安全的，Krause補充道。該團隊在賓夕法尼亞州約克市的天祥公司測試基地測試了一個全尺寸的安裝模型，在那里，技術人員在颶風級別的風力下對它進行了測試，并向它發射了一塊2x4的木材，沒有產生任何負面影響。

克拉克,這也有助于建立兩個新的華盛頓特區,景點——史密森國家博物館5.4億美元的非洲裔美國人的歷史和文化和價值5億美元的博物館的圣經是使用激光掃描大約30活躍項目從文檔的歷史建筑為裝修識別設計風險,克勞斯說。

克拉克的VDC團隊還使用了真實捕捉技術來幫助紀念館的景觀美化工作，他們前往賓夕法尼亞州和新澤西州的林場，掃描了四棵即將被放置在現場的大樹標本。Krause說，40英尺高的Bur橡樹和樹干直徑達20英寸的哥倫比亞梧桐樹將在整個景觀規劃中扮演重要角色，知道如何放置它們以及將它們放置在什么地方將有助于它們到達現場。

“知道了這些樹枝的確切位置，我們可以讓建筑師把它們放在模型中，我們可以看到起重機應該在我們種植它們之前把它們吊起來，”他說。

蒂德威爾說，紀念館占地4英畝，毗鄰史密森尼國家航空航天博物館(Smithsonian National Air and Space Museum)，預計耗資1.15億美元。除了掛毯和雕塑外，它還將包括一面題字墻和一個2400平方英尺(約合429平方米)的信息中心，里面有書店和公共衛生間。(按此觀看紀念館建筑的實時及延時錄像。)

這座紀念碑由蓋里合伙公司(Gehry Partners)和AECOM的合資企業設計，已經進行了多年，但艾森豪威爾家族的成員反對早期的掛毯設計計劃，紀念碑一度被擱置。在此之前，三幅大型的掛毯被設計在基地的南面、東面和西面。根據國家首都規劃委員會的說法，單一掛毯的最終設計尊重了場地的歷史背景，同時創造了公園內的紀念意義。

紀念館其他值得注意的建筑特色包括: