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國產光刻機工廠落地雄安 中國電子工程設計院澄清

2023-09-19 17:28:15 編輯:郭程龍 來源:
導讀 近期,網上有關國產光刻機工廠落地雄安的消息在各大平臺上流傳,消息稱清華大學Euv項目把Asml的光刻機巨大化,并且該項目在雄安新區正式落...

近期,網上有關國產光刻機工廠落地雄安的消息在各大平臺上流傳,消息稱清華大學Euv項目把Asml的光刻機巨大化,并且該項目在雄安新區正式落地。針對這個消息,中國電子工程設計院有限公司在9月18日發布聲明稱,該項目并非是網傳的國產光刻機工廠,而是北京高能同步輻射光源項目。這個項目是國家的十三五重大科技基礎設施,是當今世界上亮度最高的第四代同步輻射光源項目之一。

根據相關資料顯示,HEPS主要是通過加速器將電子束加速到6GEV,然后利用接近光速的速度保持運轉,電子束會在儲存環的不同位置通過彎轉磁鐵或者是一些插入件偏轉方向。從而釋放出高能量,高亮度和穩定的光線,這種功能就是同步輻射光,可以把它看成一個超高速和超高精的巨型X光機器。


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