繞過(guò)EUV技術(shù) 佳能著手銷售5nm芯片生產(chǎn)設(shè)

2023-10-15 18:46:47 編輯：聶慶平來(lái)源：

導(dǎo)讀光刻機(jī)大廠佳能近期宣布已經(jīng)開(kāi)始銷售基于納米印刷技術(shù)的芯片生產(chǎn)設(shè)備，該設(shè)備采用不同于復(fù)雜光刻技術(shù)的方案，可以制造5納米芯片。這套生產(chǎn)...

光刻機(jī)大廠佳能近期宣布已經(jīng)開(kāi)始銷售基于“納米印刷”技術(shù)的芯片生產(chǎn)設(shè)備，該設(shè)備采用不同于復(fù)雜光刻技術(shù)的方案，可以制造5納米芯片。這套生產(chǎn)設(shè)備的工作原理與ASML的光刻機(jī)是不一樣的，其并不利用光學(xué)圖像投影的原理，將集成電路的微觀結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到硅晶圓，則是更類似于印刷技術(shù)，直接通過(guò)壓印形成圖案。

與傳統(tǒng)的EUV光刻技術(shù)相比，這項(xiàng)技術(shù)能夠大大的降低耗能，并且可以降低設(shè)備成本。雖然這項(xiàng)技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)很明顯，但是現(xiàn)階段導(dǎo)入量產(chǎn)上仍然有很多問(wèn)題需要繼續(xù)解決，包括更容易因?yàn)榭諝猱?dāng)中的細(xì)微塵埃影響而形成瑕疵。本次佳能發(fā)布的設(shè)備可以應(yīng)用于最小14平方毫米的硅晶圓，從而能夠生產(chǎn)出相當(dāng)于5納米工藝的芯片。