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納米壓印與光刻技術互補 站在世界水平
佳能從2004年開始就探索納米壓印技術，在2017年推出首臺樣機。目前這個樣機可以實現最小線寬14納米的圖案化，相當于當下生產最先進的邏輯半
2023-11-27 15:01:36 -
這一光刻技術比EUV更具發展潛力 比EUV更先進
對半導體行業而言，光刻技術和相應的設備發揮著至關重要的作用，光刻設備是把設計好的圖形從模板中轉印到晶圓表面的光刻膠上所采用的一種技
2023-06-24 18:44:26
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