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2023年8月7日,俄羅斯地區媒體《消息報》發布了一篇以中國在微芯片競爭中逐漸趕上為題的文章。當中引用了中國媒體報道聲稱上海地區的微電子有希望能夠在2023年年底之前推出28納米的浸沒式光刻機,雖然中國地區的新型光刻機相比于其他各國最先進的同類產品依舊比較落后,不過隨著外國供應商的供需進一步被限制,中國在該領域中將會得到更快的發展。

在2022年的10月7日,美國地區政府官方發布的有關于半導體出口的管制措施,當時中國地區在半導體行業已經取得了突破性的技術發展。而且在2022年的夏季中國的科技企業中芯國際已經研發出了七納米芯片的生產工藝,至此中國成為了全球半導體行業中的主要競爭者之一。

不過從目前的形勢上來看,中國地區在半導體行業中發展最值得考慮的問題在于生產芯片的工具,而不是如何去生產更加先進的芯片。據了解生產芯片工具中最關鍵的就是光刻機,其中極紫外線光刻機的生產技術,已經被荷蘭地區的阿斯麥公司完全壟斷,如果沒有這種機器,也就意味著不可能生產出更加先進的芯片。

美國現在正在嘗試限制中國地區半導體行業的發展,另一方面可以提高美國本身在半導體行業競爭中的地位,現在美國在半導體行業中已經明顯落后。據統計美國地區芯片產量在全球各國總產量中的占比數量僅僅只有12%,為改變這一現狀,拜登政府發布了《芯片與科學法》。內容指出政府將會提供390億美元鼓勵各大企業在美國境內生產芯片,還有130億美元將會專門用來做芯片研發。
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