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近日,荷蘭政府發布的半導體制造設備的相關法規,后續荷蘭光刻機巨頭阿斯麥公司發布公告,聲稱當下最先進的浸沒式duv光刻機設備出口需要得到荷蘭政府的認證,如果未經認證不能出口的管制國家,這一次的消息再次引發了業內人士的議論,據了解,美國和荷蘭企圖在半導體領域給中國芯片制造商再來一記重拳,通過這種方式來限制對華銷售芯片制造設備。

在此之前,芯片制造領域euv光刻系統已經受到出口限制,如今浸潤式Duv光刻系統也已經受到最新的出口管制,不過阿斯麥公司表示,并非是所有的光刻機設備系統都受到管制,從阿斯麥公司的通告中可以得知,中國依然能夠從阿斯麥公司進口部分低端的光刻機設備,但是這些設備的技術都相對來說比較落后,一些先進的光刻機是無法出口的。

從美國與其盟國的這些做法來看,對方是想卡住中國芯片發展的道路,想要讓中國芯片在高端市場的發展受到限制,除此之外在低端光刻機領域方面,對方還是給中國的設備進口留下一些余地,從目前的荷蘭光刻機出口限制來看,中國的芯片行業不能夠再盲目自信了,應該及時的轉變自己的思路,想要在行業內生存就必須學會彎道超車,要找到一條全新的道路。

目前光刻機的需求量,中國市場可謂占據了全球的一半,2019年中國芯片制造商對光刻機的需求就已經占據了全球總銷量的40%左右,預計這個數據在2023年還將會持續增加,屆時占比就會超過50%,一個能夠在整個行業內占據50%左右的大型市場,就這樣被一些政策逼迫放棄,可以說是阿斯麥公司的悲哀,早在去年,阿斯麥公司就已經損失了40%的利潤。
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